詞條
詞條說(shuō)明
10 噸反滲透設(shè)備一、設(shè)備概述10 噸反滲透設(shè)備是一種能夠每日生產(chǎn) 10 噸純水的水處理裝置。它主要基于反滲透技術(shù),通過對(duì)原水施加一定壓力,使水通過半透膜,從而去除水中的雜質(zhì)、鹽分、有機(jī)物和微生物等,生產(chǎn)出高質(zhì)量的純水。這種設(shè)備廣泛應(yīng)用于電子、制藥、化工、食品飲料、電力等眾多行業(yè),以及對(duì)水質(zhì)要求較高的場(chǎng)所,如實(shí)驗(yàn)室、醫(yī)院等。二、工作原理反滲透原理反滲透膜是 10 噸反滲透設(shè)備的核心部件,其孔徑非常
實(shí)驗(yàn)室超純水機(jī)設(shè)備的反滲透膜多久更換一次?
實(shí)驗(yàn)室超純水機(jī)設(shè)備中反滲透膜的更換周期并不是固定的,通常受到以下多種因素的影響:原水水質(zhì)硬度:若原水硬度高,含有大量鈣、鎂等離子,易在反滲透膜表面形成水垢,降低膜通量和分離性能。如以硬度較高的地下水為原水,反滲透膜可能 1-2 年就需更換,具體取決于鈣、鎂離子濃度和設(shè)備預(yù)處理情況4.有機(jī)物含量:原水中有機(jī)物含量高會(huì)污染反滲透膜,其可能吸附在膜表面堵塞微孔,或與其他物質(zhì)反應(yīng)形成凝膠層。若以含有較多腐
電子工業(yè)領(lǐng)域半導(dǎo)體制造:在半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)過程中,幾乎每一個(gè)環(huán)節(jié)都需要高純度的水。從硅片的清洗,到光刻、蝕刻等工藝,都要求水中幾乎不含任何雜質(zhì)。EDI 純水設(shè)備所生產(chǎn)的高純度水(電阻率可達(dá) 18.2MΩ?cm 以上)可以有效地避免水中的離子、有機(jī)物和微生物對(duì)芯片制造過程產(chǎn)生影響,確保芯片的性能和質(zhì)量。例如,在光刻工藝中,哪怕是微小的顆粒雜質(zhì)也可能導(dǎo)致芯片線路出現(xiàn)缺陷,而 EDI 純水能夠?yàn)楣饪棠z的
軟化水設(shè)備在工業(yè)生產(chǎn)中有哪些應(yīng)用?
鍋爐行業(yè)防止結(jié)垢問題:在工業(yè)鍋爐中,水被加熱產(chǎn)生蒸汽用于驅(qū)動(dòng)渦輪機(jī)、提供熱量等多種用途。如果使用硬水,水中的鈣、鎂等離子會(huì)在鍋爐受熱面(如管壁)上形成水垢。例如,碳酸鈣(CaCO?)和氫氧化鎂(Mg (OH)?)等水垢的導(dǎo)熱系數(shù)比金屬低很多,會(huì)大大降低熱傳遞效率。據(jù)估算,水垢厚度達(dá)到 1 - 2 毫米時(shí),燃料消耗可能會(huì)增加 5 - 8%。軟化水設(shè)備通過去除水中的鈣、鎂離子,能有效防止水垢在鍋爐內(nèi)部
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