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Plasma Cleaner等離子去膠清洗機在LED封裝制造中的應用
Plasma Cleaner等離子清洗/去膠機是無任何環(huán)境污染的新型清洗方式,是所有清洗方法中最為的剝離式清洗,最大優(yōu)點在于清洗后無廢液,最大特點是不分處理對象的基材類型均可處理,如金屬、半導體、氧化物及粉體或時顆粒狀材料的等離子表面改性處理,包括:等離子清洗、活化、刻蝕、沉積、聚合、接枝、污染物去除、表面化學改性、聚合物植、表面涂覆等。為所處理的材料表面帶來超潔凈、殺菌、提高濕潤性轉(zhuǎn)變,表面
等離子處理機不但可以進行表面清洗,提高表面活性,等離子體清洗機與物體表面進行化學反應能夠產(chǎn)生活性化學集團,應用范圍很廣,比如提高材料表面粘接能力,提高焊接能力,邦定性,親水性等等很多方面。等離子處理機不但可以進行表面清洗,而且重要的是可以提高表面活性,等離子體與物體表面進行化學反應能夠產(chǎn)生活性化學集團,應用范圍很廣,比如提高材料表面粘接能力,提高焊接能力,邦定性,親水性等等很多方面。光學行業(yè)等離子
plasma等離子清洗機具有活化,蝕刻,灰化,去膠作用:plasma等離子處理設備通過對物體表面進行等離子轟擊,可以達到對物體表面的蝕刻,活化,清洗,改性,灰化等目的。等離子清洗機能顯著加強材料表面的粘性及焊接強度,等離子處理設備應用于LCD,LED,PCB,BGA,引線框架,平板顯示器的清洗和蝕刻。等離子處理機清洗過可以在短時間內(nèi)能清除材料表面污染物不管表面是金屬、陶瓷、聚合物、塑料等材料,等離
????在集成電路或MEMS微納米加工前道工序中,晶圓表面會涂上光刻膠,然后光刻,顯影,但光刻膠只是圖形轉(zhuǎn)化的媒介,當光刻后在光刻膠上形成微納米圖形后,需要進行下一步的生長或刻蝕的工藝,之后需要用某種方法把光刻膠去除。等離子體去膠機可實現(xiàn)此功能。它用射頻或微波方式產(chǎn)生等離子體,同時通入氧氣或其他氣體,等離子體與光刻膠進行反應,形成氣體被真空泵抽走 等離子清
公司名: 煙臺金鷹科技有限公司
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地 址: 山東煙臺招遠市山東招遠高新開發(fā)區(qū)招金路518號
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