微電容單通道叉指電極真空探針臺用途介紹

時間：2023-10-07作者：鄭州科探儀器設備有限公司瀏覽：61

鄭州科探儀器設備有限公司專注于真空探針臺,小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

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• 磁控濺射技術原理及應用簡介

  磁控濺射技術原理及應用簡介一、磁控濺射原理磁控濺射是一種常用的物相沉積（PVD）的方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好，成分接近靶材成分等眾多優點。傳統的濺射技術的工作原理是：在高真空的條件下，入射離子（Ar+）在電場的作用下轟擊靶材，使得靶材表面的中性原子或分子獲得足夠動能脫離靶材表面，沉積在基片表面形成薄膜。但是，電子會受到電場和磁場的作用，產生漂移，因而導致傳濺射效率低，電

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  這個帶有濕度控制的氣體濃度發生器具有一系列強大的功能和性能參數，特別適合需要在高濕度和寬范圍氣體濃度中準確控制和檢測的應用。以下是一些關鍵的性能參數和特性：- AI智能控制算法：采用先進的AI智能控制算法，能夠在大范圍的氣體濃度比例下準確穩定地控制氣體濕度。- 寬廣的濃度稀釋范圍：該設備的濃度稀釋范圍為1-5000倍，適應各種應用環境。- 高精度流量檢測：流量檢測精度可達到±1% F.S，流量線性

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  質量流量計為何要進行穩壓補償常用的流量計大多只能夠直接測量流體的體積，并不能直接測量質量，如果只測量流體在當前工況下的體積時，質量流量計儀表可以直接顯示出來。但是如果要求流量計顯示為流體質量時，需要通過計算即時采樣的流體體積參數與密度參數相乘的積而得出(質量=密度X體積)而并非直接測量出流體的質量。質量流量計作為流量儀表，它測量出來的數據一定要準確，如果要測量流體的質量時就涉及到一個問題：就是流體

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  小型濺射儀儀問儀答近小伙伴對于濺射儀使用和技術參數問的問題比較多，今天總結一下濺射儀的一些常見的技術問題：1、膜厚檢測儀原理：膜厚監測儀是采用石英晶體振蕩原理，利用頻率測量技術加上的數學算法，進行膜厚的在線鍍膜速率和實時厚度計算。主要應用于MBE、OLED或金屬熱蒸發、磁控濺射設備的薄膜制備過程中，對膜層厚度及鍍膜速率進行實時監測。2、濺射儀是否可以鍍鎳：可以鍍鎳 ?但是 鎳是導磁金屬