小型多靶磁控濺射鍍膜儀

時間：2025-04-21作者：武漢維科賽斯科技有限公司瀏覽：241

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  小型多源蒸發(fā)鍍膜儀選購指南小型多源蒸發(fā)鍍膜儀是實驗室和工業(yè)生產(chǎn)中常用的薄膜制備設(shè)備，其性能直接影響到鍍膜質(zhì)量和實驗效果。選購時需要考慮幾個關(guān)鍵因素，確保設(shè)備能夠滿足實際需求。真空度是衡量鍍膜儀性能的首要指標(biāo)。優(yōu)質(zhì)設(shè)備通常能達到10-4Pa以上的極限真空度，這直接決定了薄膜的純度和致密性。鍍膜均勻性同樣重要，好的設(shè)備在基片旋轉(zhuǎn)和蒸發(fā)源布置上都有精心設(shè)計，確保膜厚偏差控制在5%以內(nèi)。蒸發(fā)源數(shù)量決定了

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