上海伯東KRI離子源在半導體材料中的預清洗及刻蝕應用

時間：2024-01-12

作者：伯東企業（上海）有限公司

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分子泵組應用于低溫真空探針臺
Pfeiffer?分子泵組應用于低溫真空探針臺真空探針臺一般用于復雜, 高速精密器件進行表面觀測以及各種性能測試的儀器, 通過測試可以產品的質量和性并縮減研發時間和器件制造工藝的成本. 探針臺主要應用于半導體行業, 光電行業, 集成電路以及封裝的測試為什么需要真空環境?1. 真空探針臺通過搭配分子泵組, 配合真空吸附卡盤及真空吸附探針座的使用, 通過空氣壓縮, 固定樣品及探針座.2. 由
HVA 真空插板閥（真空閥門）用于激光真空系統
因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。美國HVA帶孔真空插板閥（真空閥門）真空閘閥廣泛用于激光真空系統伯東公司代理美國HVA帶孔真空插板閥(Gate Valve)真空閥門廣泛用于激光真空系統HVA Gate Valve在激光真空系統上的應用伯東企業（上海）有限公司, 為美國HVA 真空閥門在中國境內的代理商, 并負責HVA Valve 真空閥門在中國地區的銷售
HVA 真空閥門應用于E-Beam 鍍膜機
某品牌?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機系統采用?HVA?真空閥門?11000, HVA?真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統停機時不破壞系統真空,?只要對泵內部進行破真空即可.E-Beam?鍍膜機設備組成:?系統主要由蒸發室,?電子,?進樣室
KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220濺射沉積 ZrAlN薄膜
合金化是提高過渡族金屬氮化物薄膜硬度及抗磨損、耐腐蝕性能的有效方法。Al是常用合金化元素，能提高薄膜的硬度和抗高溫氧化性能。?北京某大學實驗室在對硬韌 ?ZrAlN 薄膜及薄膜力學性能研究中, 采用伯東?KRI?考夫曼射頻離子源?RFCIP220? 輔助磁控濺射沉積的方法在鈦合金和單晶 Si 上沉積不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.&n