國華三新—鵬城半導體簽約儀式在深圳舉行

時間：2022-01-18

作者：鵬城半導體技術（深圳）有限公司

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詞條說明
熱烈祝賀鵬城半導體獲得第六屆中國·湖州全球高層次人才創新創業大賽一等獎
4月16日，“才聚西塞山青創南太湖”*六屆中國·湖州**高層次人才創新創業大賽暨深圳城市賽正式開賽，前期共征集20多個高層次人才創業項目，經過層層篩選，共有9個項目進入本次城市賽，涉及新能源、新材料、生命健康、AI智能等多個領域。鵬城半導體技術（深圳）有限公司-副總經理孔博士經過激烈的角逐，鵬城半導體技術（深圳）有限公司（簡稱：鵬城半導體）-“大尺寸金剛石晶圓片產業化項目”“斬獲了本次城市賽的一
鵬城半導體參加2022深圳市坪山區半導體產業創新發展商端研討會
2022年5月31日，由廣東省半導體行業協會主辦的以“科技創芯·智匯坪山”為主題的2022年深圳市坪山區半導體產業創新發展**研討會在坪山區創新廣場東部之芯成功舉辦，本次**研討會有效促進產業科研成果與坪山區優勢資源高效對接，得到了深圳市坪山區工業和信息化局的支持。**研討會現場近50位****、院士*及產業界嘉賓出席了本次**研討會，其中主要**及貴賓有坪山區一屆政協**陳主，坪山區副區長吳志
等離子體化學氣相沉積設備有哪些特點《臺風資訊》
等離子體化學氣相沉積設備有兩種:其一是PCVD(等離子體一般化學氣相沉積)，另一個是PECVD(等離子體增強化學氣相沉積)，它們都是在20世紀70年代發展起來的鍍膜工藝。其特點是:1、在不同基片上制備各種金屬膜、**物聚合膜、非晶態無機物膜;2、等離子體清洗基材，使膜層的附著力增加;3、可制備厚膜，內應力小、致密性好、針孔小、膜層成分均勻、不易產生微裂紋;4、低溫成膜，溫度對基材沒什么影響，避免了
新一代半導體技術-真空鍍膜技術的現狀及發展趨勢
摘要：隨著可持續發展觀的深入普及和社會經濟的快速發展，經濟與環保協同發展成為當下企業發展和科技創新的主要趨勢。傳統的通電鍍膜技術會產生較大的污染，且鍍膜質量不高，經濟效益低下，已逐漸退出歷史舞臺，取而代之的是技術較加**、鍍膜質量較加優秀的真空鍍膜技術。真空鍍膜技術始于20世紀30年代，當前真空鍍膜技術已從實驗室走向了工廠，實現了大規模生產，在光伏、建筑、裝飾、通訊、照明等工業領域得到了廣泛的應用