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2023年*二屆*三代半導體材料技術與市場研討會由半導體在線主辦,本屆會議于2023年3月30-31日在中國-蘇州合景萬怡酒店召開。*二屆*三代半導體材料技術與市場研討會提供協同創新的高質量交流平臺,推動國內三代半導體材料的學術研究、技術進步和產業發展,展示業內精英企業,凝聚行業發展共識。在此次會議,鵬城半導體技術(深圳)有限公司(簡稱:鵬城半導體)將帶來納米技術及**制造設備跟大家見面,其中包括
1、真空鍍膜行業技術水平及特點多功能磁控濺射儀(高真空磁控濺射鍍膜機)-鵬城半導體真空鍍膜是表面處理技術的一項分支,是指為了減少雜質的干擾,在高度真空環境下,通過物理或化學手段,將金屬、非金屬或化合物材料(膜材)轉換成氣態或等離子態,并沉積于玻璃、金屬、陶瓷、塑料或**材料等固體材質(簡稱基材、基板或基片)表面形成薄膜的過程。利用真空鍍膜技術鍍制薄膜后,可使材料表面獲得新的復合性能并實現新型的工程
【前言】金剛石是自然界已發現的具有較高的硬度、強度、耐磨性材料,金剛石具有的熱導率、透過波段、聲速以及半導體特性和化學惰性等綜合性能使其成為當今世界上較優秀的*材料。上世紀80年代初期通過化學低壓氣相沉積生成金剛石薄膜(CVD)技術**突破性進展,經過多年的研究發展,CVD金剛石生長技術已日漸成熟。目前已有四種形態的CVD金剛石產品進入市場,它們是:1)純多晶金剛石厚片 2)涂層金剛石;3)大
真空鍍膜設備的薄膜制作過程,簡單來說就是將一種材料(薄膜材料)轉移到另一種材料(基底)的表面,形成和基底牢固結合的薄膜的過程。所以,任何的真空鍍膜薄膜制作方法都包括:源蒸發、遷移和凝聚三個重要環節。多功能磁控濺射儀一、鍍膜蒸發源“源"的作用是提供鍍膜的材料(或被鍍材料中的某種組分)。通過物理或化學的方法使鍍膜材料成為氣態物質。熱絲CVD金剛石設備二、遷移過程遷移過程都是在氣相中進行的,在氣態物質遷
公司名: 鵬城半導體技術(深圳)有限公司
聯系人: 戴朝蘭
電 話:
手 機: 13632750017
微 信: 13632750017
地 址: 廣東深圳南山區留仙大道3370號南山智園崇文園區3號樓304
郵 編:
網 址: pcs2021.b2b168.com
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