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小型濺射儀問題解答


    鄭州科探儀器設備有限公司專注于真空探針臺,小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

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  • PVD真空鍍膜技術知識問答

    Q1: 什么是PVD? 真空電鍍加工真空鍍膜技術A1: PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫,中文意思是“物相沉積”,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。?? ? 鄭州科探儀器設備有限公司新研發一款小型蒸鍍儀KT-Z1650DM是一款小型臺式加熱功率可控蒸發鍍膜儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,

  • 恭喜鄭科探突破焦耳熱閃蒸新技術

    焦耳熱閃蒸技術,用于將含碳的廢料轉化為石墨烯材料。原理是利用**高溫環境將高碳含量材料變為石墨。先將這些廢料被磨成粉末,然后用高壓加熱到2000℃(3680°F到4940°F)之間。為了獲得高質量的渦輪狀閃蒸石墨烯,閃蒸時間應保持在30~100 ms之間。這種技術是一種較便宜制造石墨烯的方法,需要的能量也少得多,并可以將生活中廢棄的塑料碎片回收利用。在這項新的研究中,萊斯大學的科學家們已經通過焦耳閃

  • 小型濺射儀問題解答

    小型濺射儀儀問儀答較近小伙伴對于濺射儀使用和技術參數問的問題比較多,今天總結一下濺射儀的一些常見的技術問題:1、膜厚檢測儀原理:膜厚監測儀是采用石英晶體振蕩原理,利用頻率測量技術加上**的數學算法,進行膜厚的在線鍍膜速率和實時厚度計算。主要應用于MBE、OLED或金屬熱蒸發、磁控濺射設備的薄膜制備過程中,對膜層厚度及鍍膜速率進行實時監測。2、濺射儀是否可以鍍鎳:可以鍍鎳 ?但是 鎳是導磁

  • 磁控濺射技術原理及應用簡介

    磁控濺射技術原理及應用簡介一、磁控濺射原理磁控濺射是一種常用的物相沉積(PVD)的方法,具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好,成分接近靶材成分等眾多優點。傳統的濺射技術的工作原理是:在高真空的條件下,入射離子(Ar+)在電場的作用下轟擊靶材,使得靶材表面的中性原子或分子獲得足夠動能脫離靶材表面,沉積在基片表面形成薄膜。但是,電子會受到電場和磁場的作用,產生漂移,因而導致傳濺射效率低,電

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