小型濺射儀問題解答

時間：2023-11-11作者：鄭州科探儀器設備有限公司瀏覽：54

鄭州科探儀器設備有限公司專注于真空探針臺,小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

• 詞條

  詞條說明

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  1000度高溫真空探針臺，主要應用于半導體、材料科學、納米技術、光電子、薄膜技術等領域，具有以下用途：1. 半導體器件測試與表征：用于不同溫度下的半導體料件、電子器件和光電子器件的性能測試和分析。2. 材料性能表征：研究和測試材料在不同溫度下的電學、磁學、光學等性能，以及材料的穩定性和可靠性。3. 納米結構與納米器件研究：在納米尺度上測量納米結構與納米器件的電學性能，及其在高溫真空環境中的穩定性和

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  小型濺射儀的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產生的二次電子會受到電場和磁場作用，產生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌跡近似一條擺線。若為環形磁場，則電子就

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• PVD制備K型薄膜熱電偶的研究

  熱電偶元件是在工業、科研中廣泛使用的一種溫度傳感器,具有測溫范圍廣,堅固耐用,無自發熱現象,使用方便等優點。薄膜熱電偶除了繼承上述普通熱電偶的優點外,還具有熱容小,響應速度快,幾乎不占用空間,對被測物體影響小的優點。本研究為制備K型薄膜熱電偶選擇了電子束蒸發鍍,磁控濺射,多弧離子鍍三種PVD方法。其中一部分樣片的NiCr/NiSi薄膜均由磁控濺射均由磁控濺射沉積,另一部分樣片的NiCr薄膜由磁控濺