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原子吸收光譜儀由以下四部分組成1.光源系統:空心陰極燈2.原子化系統:火焰原子化器;石墨爐原子化器或氫化物發生器。3.分光系統:單色器4.檢測系統:光電倍增管等一、光源系統:原子吸收光源應滿足以下條件1.能輻射出半寬度比吸收線半寬度還窄的譜線,并且**線的中心頻率應與吸收線的中心頻率相同。2.輻射的強度應足夠大。3.輻射光的強度要穩定,且背景小。原子化器是將樣品中的待測組份轉化為基態原子的裝置。二
膜厚測試儀的關鍵技術與應用** 膜厚測試儀是一種用于測量材料表面薄膜厚度的精密儀器,廣泛應用于半導體、光學鍍膜、汽車制造等領域。無錫作為國內重要的儀器儀表產業基地,其生產的膜厚測試儀在精度和穩定性方面表現**,成為許多工業場景中的關鍵檢測工具。 **技術解析 膜厚測試儀的**技術主要依賴于光學干涉法和X射線熒光法。光學干涉法通過分析薄膜表面對光的反射和干涉現象來計算厚度,適用于透明或半透明薄膜的
鍍層測厚儀的關鍵技術與發展趨勢 鍍層測厚儀是一種用于測量金屬或非金屬表面鍍層厚度的精密儀器,廣泛應用于制造業、電子工業、汽車行業等領域。其**技術主要依賴于無損檢測方法,能夠在不破壞材料的前提下快速準確地獲取數據。 **技術原理 鍍層測厚儀主要采用X射線熒光法(XRF)和渦流法兩種測量方式。X射線熒光法適用于多層鍍層測量,精度高,但設備成本較高;渦流法則適用于導電材料的單層鍍層檢測,操作簡便且速度
鍍層膜厚檢測的關鍵技術與應用 在工業生產中,鍍層膜厚的精確測量直接影響產品質量和性能。無論是金屬鍍層、涂層還是薄膜材料,厚度是否達標往往決定了產品的耐腐蝕性、導電性和使用壽命。因此,鍍層膜厚檢測技術成為許多行業的關鍵環節。 目前,常見的鍍層測厚技術包括X射線熒光法、磁性法和渦流法。X射線熒光法適用于多種金屬鍍層的非接觸式測量,尤其對多層鍍層的分析具有優勢。磁性法則主要用于鋼鐵基材上的非磁性鍍層測量
公司名: 江蘇天瑞儀器股份有限公司
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