在紡織和涂層領(lǐng)域_等離子表面活化機的使用情況有哪些呢？

時間：2023-03-07作者：深圳子柒科技有限公司瀏覽：115

深圳子柒科技有限公司專注于等離子表面處理機,全自動點膠機,等離子清洗機等

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  詞條說明

• 等離子處理器使用哪些常見氣體作為清理介質(zhì)？

  等離子處理器也屬于干洗法，與傳統(tǒng)的濕法清洗器相比，電漿處理器具備工藝簡單、操作簡單、可控性高、精度高等特點，能一次清理表層不會有殘留物，反觀濕法清理一次清理不干凈還會有殘留物，如果使用大量的溶劑，對環(huán)境和人體都會有害。電漿清洗器在使用流程中，有兩種清理流程：化學(xué)變化和物理反應(yīng)。電漿清理性能好，清理快，去除氧化物，**物和物體表層活化效果好，而且在使用流程中不會產(chǎn)生對人體和環(huán)境有害的氣體，是一種真正

• ?plasma等離子體能量密度對H2氣氛下C2H6脫氫反應(yīng)的影響

  ?plasma等離子體能量密度為860 kJ/mol時，H2添加量對C2H6脫氫反應(yīng)的影響：隨著H2濃度增加，C2H6轉(zhuǎn)化率，C2H2、C2H4和CH4收率均有所增加，這表明H2的加入有利于C2H6轉(zhuǎn)化及C2H2、C2H4和CH4生成。產(chǎn)生上述結(jié)果的可能原因是：一方面氫氣因其導(dǎo)熱性好，可大量傳遞熱量，在乙烷plasma等離子體中起稀釋氣體作用;另一方面氫氣的H-H鍵斷裂能為4.48eV，

• 等離子體刻蝕機清洗技術(shù)在塑料及橡膠行業(yè)中的應(yīng)用

  等離子體刻蝕機是利用高頻輝光放電反應(yīng)，將反應(yīng)氣體為原子或游離基等具有活性的粒子，這些活性粒子擴散到需要腐蝕的位置，然后與被刻蝕的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，形成揮發(fā)性反應(yīng)物，這種腐蝕方法也稱為干腐蝕。等離子化洗蝕刻技術(shù)是電漿特殊特性的應(yīng)用。等離子體清洗蝕刻技術(shù)的形成設(shè)備，是在密閉器皿內(nèi)用進口真空泵達到相應(yīng)的真空度，隨著氣體的稀薄，分子間隔及分子與離子之間的自由運動距離變長，在電場的作用下碰撞形成等離子體，這些離

• 等離子體CMOS工藝中應(yīng)用于集成電路制造中WAT方法研究

  WAT(Wafer Accept Test)即硅圓片接收測試，就是在半導(dǎo)體硅片完成所有的制程工藝后，對硅圓片上的各種測試結(jié)構(gòu)進行電性測試，它是反映產(chǎn)品質(zhì)量的一種手段，是產(chǎn)品入庫前進行的一道質(zhì)量檢驗。? ? ? ??伴隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，等離子體工藝已廣泛應(yīng)用于集成電路制造中，離子注入、干法刻蝕、干法去膠、UV輻射、薄膜淀積等都可能會引入等離子體損