詞條
詞條說(shuō)明
韶關(guān)合金靶材:**濺射靶材領(lǐng)域的創(chuàng)新和發(fā)展 韶關(guān)合金靶材是一家專業(yè)生產(chǎn)高品質(zhì)合金靶材的科技型企業(yè),致力于為客戶提供優(yōu)質(zhì)的濺射靶材產(chǎn)品和服務(wù)。公司擁有多名中**專業(yè)技術(shù)人員和專業(yè)化應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室,積極探索創(chuàng)新技術(shù),不斷提升產(chǎn)品質(zhì)量和性能,成為行業(yè)中的佼佼者。 合金靶材作為一種重要的濺射靶材,在能源、電子、半導(dǎo)體等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。韶關(guān)合金靶材所生產(chǎn)的合金靶材,采用多種金屬元素按照一定的比例**混合
清遠(yuǎn)鉭靶材報(bào)價(jià)隨著現(xiàn)代科技的發(fā)展和應(yīng)用領(lǐng)域的不斷擴(kuò)大,高純金屬材料的需求也日益增長(zhǎng)。作為一家專業(yè)生產(chǎn)高純金屬材料、蒸發(fā)鍍膜材料和濺射靶材的科技型企業(yè),我們公司致力于為客戶提供優(yōu)質(zhì)的鉭靶材產(chǎn)品,并以競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)的價(jià)格展現(xiàn)在市場(chǎng)上。鉭靶材作為一種藍(lán)灰色的過(guò)渡金屬,具有高度的化學(xué)穩(wěn)定性和抗腐蝕性,其熔點(diǎn)高達(dá)2996℃,屬于高熔點(diǎn)金屬。在制造化工器材、真空管、醫(yī)療器具、植入物等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。鉭靶材不僅具
氧化錫銻靶材:光電領(lǐng)域的隱形冠軍 在真空鍍膜領(lǐng)域,氧化錫銻靶材憑借其獨(dú)特的性能優(yōu)勢(shì),成為制備透明導(dǎo)電薄膜的核心材料。這種陶瓷靶材由氧化錫和氧化銻按特定比例燒結(jié)而成,在可見光區(qū)透光率超過(guò)85%,電阻率可低至10^-4Ω·cm量級(jí),完美平衡了透明性與導(dǎo)電性這對(duì)天然矛盾體。 氧化錫銻薄膜的制備主要采用磁控濺射工藝。當(dāng)高能粒子轟擊靶材表面時(shí),錫、銻、氧原子以分子形式濺射到基板上,通過(guò)精確控制濺射功率、氣
碳化硅靶材:半導(dǎo)體行業(yè)的新寵 碳化硅靶材在半導(dǎo)體制造中扮演著重要角色,其獨(dú)特的性能使其成為高端芯片和功率器件的關(guān)鍵材料。相比傳統(tǒng)硅基材料,碳化硅具有更高的熱導(dǎo)率、更強(qiáng)的耐高溫能力以及更優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性,因此在高溫、高頻、高功率電子設(shè)備中表現(xiàn)突出。 碳化硅靶材的制備工藝復(fù)雜,通常采用化學(xué)氣相沉積(CVD)或物理氣相沉積(PVD)技術(shù),以確保高純度和均勻性。其中,CVD法制備的碳化硅靶材純度高、結(jié)晶性
公司名: 東莞市鼎偉新材料有限公司
聯(lián)系人: 肖先生
電 話: 0769-88039551
手 機(jī): 18681059472
微 信: 18681059472
地 址: 廣東東莞東莞市南城區(qū)民間金融大廈
郵 編:
網(wǎng) 址: dgsdwxc1.cn.b2b168.com
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