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  • 小型磁控濺射鍍膜機

    # 磁控濺射鍍膜技術:小體積大作為 磁控濺射鍍膜是一種物理氣相沉積技術,通過高能粒子轟擊靶材,使靶材原子或分子濺射出來并沉積在基片表面形成薄膜。小型磁控濺射鍍膜機保留了傳統設備的工藝優勢,同時以緊湊結構滿足實驗室和小規模生產需求。 小型設備的**在于磁控濺射源的設計優化。永磁體或電磁線圈產生的磁場將電子約束在靶材附近,形成高密度等離子體區域,顯著提高濺射效率。這種設計使得在較低氣壓和電壓下仍能維持

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