KRI 射頻離子源輔助沉積鍍制385nm紫外帶通濾光片

時間：2024-01-10

作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司

詞條
詞條說明
HVA 真空閥門應用于亞洲*大的粒子系統(tǒng)
因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。美國 HVA 真空閥門應用于亞洲大的粒子系統(tǒng)上海伯東代理的美國 HVA 真空閥門應用于中國研制的亞洲大的粒子系統(tǒng) ( 100MV ),當前世界上大的粒子系統(tǒng)為美國費密國立實驗室的一臺質子同步 ( 200MV )上海伯東是美國 HVA 真空閥門在中國境內的代理商, 負責HVA valve 真空閥門在中國地區(qū)的銷售和相關
分子泵組與紅外光譜儀聯(lián)用
分子泵組與紅外光譜儀聯(lián)用進行工業(yè)催化材料分析上海伯東德國 Pfeiffer 經濟型分子泵組?Hicube 80 Eco 可搭配紅外光譜儀共同使用, 進行工業(yè)催化的材料分析. 上海伯東客戶某大學實驗室, 采用浸漬法進行試驗, 為了提高浸漬量, 需要保證在真空環(huán)境下進行, Pfeiffer?分子泵組?Hicube 80 Eco 是前級泵和分子泵的結合, 體積小巧, 即插即
美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機應用
上海伯東某客戶在熱蒸發(fā)鍍膜機中配置美國?KRi 考夫曼離子源?KDC 40, 進行鍍膜前基片預清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD 工藝, 通過同時的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應力, 工藝效率等.離子源鍍膜前基片預清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD考夫曼離子源 KDC 40 到基片距離控制在 3
HVA 高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機
因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。HVA?高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機OLED 鍍膜機主要面向半導體照明客戶, 需要鍍膜機性能穩(wěn)定, 器件效率高, *,HVA?高真空閘閥應用一般科研用鍍膜機的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時需要配置分子泵系統(tǒng)或低溫泵