KRI 離子源應用于車載AR-HUD 鍍膜

時間：2024-01-10

作者：伯東企業（上海）有限公司

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氦質譜檢漏儀 ASM 340D 高真空排氣臺密封性泄露檢測
氦質譜檢漏儀高真空排氣臺密封性泄露檢測上海伯東某客戶生產研發多工位高真空和高真空排氣臺, 實現多工位同時抽真空的效果, 真空度需要穩定在 -7 mbar, - 8 mbar, 包含真空系統在內的多個組件, 均需要進行密封性泄露測試, 以保證高真空性能. 經過上海伯東推薦真空系統**組件分子泵選用德國 Pfeiffer HiPace 系列, 并使用無油干式氦質譜檢漏儀 ASM 340D?
分子泵組玻璃封管抽真空進行金屬燒結試驗
Pfeiffer?分子泵組玻璃封管抽真空進行金屬燒結試驗上海伯東德國 Pfeiffer 經濟型分子泵組?Hicube 80 Eco 成功應用于玻璃封管抽真空, 進行金屬燒結試驗, 主要應用如下:系統真空度要求: 10-4 mbar1. 玻璃管內放置金屬材料2. 利用分子泵組提供穩定的真空, 封住玻璃管, 抽走多余的空氣和水汽, 減少水, 氧, 氮等氣體對燒結的不良影響, 然后對
HVA 高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機
因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。HVA?高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機OLED 鍍膜機主要面向半導體照明客戶, 需要鍍膜機性能穩定, 器件效率高, *,HVA?高真空閘閥應用一般科研用鍍膜機的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時需要配置分子泵系統或低溫泵
HVA 真空閥門用在氣體管路系統
某半導體工廠在生產線上氣體輸送環節的氣體管路系統采用伯東?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?，作為真空隔離密封.?HVA?是真空技術創新者的真空閥門(插板閥),?是高真空閥門的主要制造商和供應商.?在設計真空系統時,?可以輕松集成?HVA?閥門. HVA?閘閥從5/8英寸（16