KRi 射頻離子源 IBSD離子束濺射沉積應用

時間：2024-01-12作者：伯東企業（上海）有限公司瀏覽：46

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  詞條說明

• 分子泵組應用于脈沖激光沉積系統 PLD

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  因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。HVA 高真空閘閥應用于 E-Beam 鍍膜機E-Beam 電子束蒸發鍍膜機用于在半導體, 光學, **導材料等行業的研究與生產, 比如基片蒸發沉積金屬, 導電薄膜, 半導體薄膜, 鐵電薄膜, 光學薄膜和介質材料.E-Beam 鍍膜機設備組成:?系統主要由蒸發室, 電子, 進樣室 (可選) , 旋轉基片加熱臺, 工作氣

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  ? ? 紅外光學薄膜器件作為紅外系統重要組成部分,?已廣泛應用于航空航天、、環保、分析儀器等各個領域.?在紅外光學應用中,?由于鍺在2～14μm紅外波段內有高而均勻的透過率,?是一種的優良紅外光學材料.?鍺單晶切片加工成的鍺透鏡及鍺窗和利用鍺單晶透過紅外波長特性制成的各種紅外光學部件廣泛用于各類紅外光學系統.?&nbs